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沈阳拓荆科技有限公司:攀登半导体装备制造世界之巅
发布时间:2017/7/24 11:03:13       新闻来源:辽宁日报 

  人的一生,总要做一件有意义的事。


  在沈阳拓荆科技有限公司总经理吕光泉心里,带领企业攀登半导体装备制造世界之巅,就是他人生最有意义的事。


  这位被公司员工亲切地称为“吕老师”的国家千人计划专家,回国前已经拥有了耀眼的履历:国际半导体薄膜装备工艺专家,拥有14项美国专利,美国硅谷一家半导体设备公司的副总裁。


  早在2005年,还在国内半导体设备刚刚起步的时候,吕光泉就与国家千人计划专家、拓荆公司董事长姜谦博士一起到沈阳考察。他回国创业,在国内发展半导体薄膜设备行业,让中国半导体设备产业赶超国际先进技术水平,创建拓荆公司承载了他们的梦想。


  2014年9月,一直关注着拓荆成长的吕光泉回国。而在拓荆公司,“003”这个意味着创始人之一的工号,一直等着他。


  回国后,吕光泉带领拓荆开创的事业更加辉煌:完成了国家重大专项任务,完善了我国半导体产业链,填补了国内空白。


  吕光泉担任国家“十一五”科技重大专项“12英寸 PECVD设备研发及产业化”的技术带头人,带领团队攻克多项技术难关,研制出的PECVD系列产品,现已累计销售34台套,合同额达2.5亿元。我国也因此跻身世界上仅有的三四个具有开发大型PECVD设备的国家之一。


  2015年底,当PECVD系列产品大规模拓展市场的时候,吕光泉带领企业启动了ALD设备研发,同时申请“十三五”科技重大专项——3D NAND PECVD设备项目。ALD技术是居国际最前沿的原子层沉积薄膜技术,可延续PECVD在20纳米以下制程的应用。目前,公司具有核心自主知识产权的产品已成功销往市场。


  2016年,公司获批承担国家“十三五”重大专项3D NAND PECVD设备研发及产业化任务。当时设备及其关键工艺技术全部由国外市场垄断,完全依赖进口。为了使我国企业摆脱这种被动局面,作为项目负责人,吕光泉带领团队攻克一道道技术难关。不到一年时间,拓荆公司首台预研样机在2016年12月发往客户端进入调试阶段。


  短短三年间,每项新产品从研发到达产,再到质量稳定地批量满足市场需求,每一步都是艰辛的。上亿元的原材料采购要保质、保量、保证时效;一台机器4000多个零部件的设计、加工、组装,每一台、每一件都要达到精度要求……在这个过程中,吕光泉以科学家的严谨态度和企业家的开拓精神,把单纯的研发型团队带成兼具生产能力强、市场服务优的国际一流科技创新团队。


  如今,在拓荆公司,总建筑面积4万平方米的半导体薄膜设备生产和研发基地已投入使用,全部投产后将达到年产350台套设备的生产能力。公司拥有海外技术专家11人,全职外专8人(千人计划专家3人),科研人员190人。就在6月份,公司刚刚完成新一轮融资5.4亿元,其中国家大基金看好企业的发展,选择第二次注入。


  “作为整体产业链上的关键环节,希望通过我们的努力,让我国半导体项目在国际上不再受制于人。”谈到企业愿景,吕光泉望着千级洁净间里正在组装的设备,语气坚定。(记者 赵英明) 

 


  (编辑:白逸群 实习编辑:李星仪)

 
 
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